R05200 Tantalumark

R05200 Tantalumark
Produkt introduktion:
Produktnavn: Pure Tantalum Plate
Renhed: 99,95%
Overflade: Poleringsoverflade
Densitet: 16,6 g/cm3
Størrelse: 0,1 ~ 20mm THK X 300 ~ 800mm X 1000 ~ 2000mm
Anvendelse: Højtemperaturovn, kemisk udstyr
Brand: Tihrj
Forsendelsestype: DHL/FedEx/UPS
Certifikater: ISO 9001: 2015/da 10204 3.1 MTC/En 10204 3.2 MTC
Send forespørgsel
Beskrivelse
Tekniske parametre

Fordele ved R05200 Tantalumplade

 

R05200 er et rent tantalmateriale (UNS R05200), der opfylder ASTM B708 ​​-standarden og tilbyder følgende kernefordele:

1. Fremragende korrosionsbestandighed

Det har fremragende ydeevne i høj temperatur og stærke syrer (såsom saltsyre, svovlsyre, salpetersyre) og chloridmiljøer, og dets korrosionsmodstand overstiger titanium og hastelloy .}

Bestandig over for Aqua Regia -korrosion, egnet til ekstreme kemiske miljøer (e . g . koncentreret svovlsyrefordamper) .

 

2. biokompatibilitet

ISO 10993 certificeret, ikke-toksisk, ikke-allergenisk, vidt brugt i ortopædiske implantater (e . g . knoglegle, kraniumreparationsplader) .

 

3. Stabilitet i høj temperatur

Med et smeltepunkt på 2996 grader kan det bruges i lang tid ved 600 grader og kan modstå et plasmamiljø på 2000 grad (e . g . raketdysetil) i kort tid .

 

4. Fremragende fysiske egenskaber

Høj termisk ledningsevne (57 . 5 W/M · K) og elektrisk ledningsevne (resistivitet 13,5 μΩ · cm) for højeffektkondensatorer.

Lav koefficient for termisk ekspansion (6 . 5 × 10⁻⁶/K) sikrer dimensionel stabilitet i miljøer med høj temperatur.

 

5. Behandling af tilpasningsevne

Forlængelse på op til 25% efter koldrulling muliggør kompleks stempling (e . g . tyndvæggede reaktorforinger) .

 

Behandlingsteknologi på R05200 Tantalumplade

 

1. koldformning

Rulling: Multipas kold rulling (deformation mindre end eller lig med 30% pr. Pass), mellemliggende udglødning (1000-1200 grad /vakuum) .

Stamping: Die Gap styres ved 5-8% af pladetykkelsen for at undgå kantkrakning .

 

2. svejsning

Elektronstråle svejsning: vakuummiljø (mindre end eller lig med 1 × 10⁻³ pa), effekttæthed 3 × 10⁴ m/cm², billedformat op til 20: 1.

TIG -svejsning: Argon -renhed større end eller lig med 99 . 999%, argonbeskyttelse er påkrævet på bagsiden, og R05200 -matchende komponenter bruges til svejsningstråde.

 

3. varmebehandling

Recrystallization Annealing: 1200 grader × 1H (vakuum mindre end eller lig med 5 × 10⁻³ pa), kornstørrelseskontrol ASTM -grad 6-8.

 

4. bearbejdning

Værktøjer: diamantbelagt carbid med rake-vinkel 10-15 grad og bagvinkel 6-8 grad .

Parametre: lineær hastighed mindre end eller lig med 30 m/min, foder 0.05-0.1 mm/r, emulsionskøling (pH neutral) .

 

R05200 Tantalumplade Typiske applikationsfelter og sager

 

Applikationsfelter

Specifik anvendelse

Præstationskrav

Sagspecifikationer

 

Kemisk udstyr

Reaktorforing, kondensatorrør

160 graders koncentreret culfurinsyre -korrosionsbestandighed

THK 3MMX2000 × 1000mm

Elektronikindustri

Høj specifik kapacitanskondensatoranode

Overflades ruhed RA mindre end eller lig med 0,2 μm

0,1 mm tantalfolie, kapacitans 100, 000 μF/g

Medicinsk implantation

Reparationsplade på kraniet, vaskulær stent

ASTM F560

THK 1,5 mm, 30% porøsitet porøs struktur

Aerospace Industry

Raketdysehalsforing, satellittermiske kontrolkomponenter

3000 graders øjeblikkelig høj temperaturmodstand

C103 belægningskompositstruktur, THK 5mm

Vakuumudstyr

Sputtering -mål, enkelt krystalovnsvarmer

Renhed større end eller lig med 99,95%, kornstørrelse mindre end eller lig med 50μm

Φ300mm mål, 16,6 g/cm³

 

Populære tags: R05200 Tantalum Sheet, Kina R05200 Tantalum Sheet Producenter, leverandører, fabrik

Send forespørgsel
MED VORES PRODUKTER OPFYLD DINE DRømme
Vi kan tilbyde en række muligheder
for biltuning-entusiaster
kontakt os